深度分析：光刻胶国产化进程加速 市场前景如何？ 产化其中PCB光刻胶占比达94%

中商情报网讯：光刻胶是深度市场半导体制造中使用的核心电子材料之一。美国近年来在半导体芯片领域对中国“卡脖子”，分析光刻胶国产替代需求日益提升。光刻同时，胶国进程加速随着晶圆制造规模持续提升，产化中国有望承接半导体光刻胶产业链转移。前景

国内光刻胶生产能力主要集中在中低端产品

光刻胶可以分为面板光刻胶（LCD光刻胶）、深度市场PCB光刻胶和半导体光刻胶（芯片光刻胶），分析其中半导体光刻胶生产难度较高。光刻我国光刻胶行业发展起步较晚，胶国进程加速生产能力主要集中在PCB光刻胶等中低端产品，产化其中PCB光刻胶占比达94%，前景而半导体光刻胶等高端产品仍需大量进口，深度市场自给率较低。分析未来随着光刻胶企业生产能力的光刻提高，我国光刻胶生产结构将会进一步优化。

数据来源：中商产业研究院整理

光刻胶市场由日美厂商垄断

当前，日美厂商占据了全球光刻胶市场绝大份额，半导体光刻胶的进口比例高达九成。多家国际光刻胶厂商已实现EUV光刻胶量产。在光刻胶品种的量产进度上，日本东京应化（TOK）、JSR、信越化学等厂商已经实现EUV光刻胶的量产。光刻胶市场被东京应化、杜邦、JSR、住友化学等国外巨头所垄断，日企在全球光刻胶市场中占据重要地位。其中，东京应化市场份额占比最高达26%，杜邦、JSR、住友化学市场份额占比分别为17%、16%、10%。

数据来源：中商产业研究院整理

光刻胶国产化率空间大

目前国内实现产业化的光刻胶生产企业主要集中于PCB及面板领域，半导体领域特别是高端品种仍需进口。半导体光刻胶是技术难度最高但成长性最好的细分市场，其中G/I线光刻胶国产替代率相对较高，而EUV光刻胶国产替代化程度最低，目前还处于研发阶段。具体如图所示：

资料来源：中商产业研究院整理

(责任编辑：时尚)