【手机中国新闻】9月15日,芯片一家中国科技公司申请的无需“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。摘要显示,光刻国科怪该发明涉及芯片设计及制造。机但家中技这项发明的点奇亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,芯片不需要光刻过程,无需直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。光刻国科怪此专利一经公布,机但家中技便引起了大量网友的点奇关注。对于申请这项专利的芯片中国科技公司,相信不少网友都很好奇。无需
手机中国发现,点奇申请这项专利的中国科技公司名叫“上海创消新技术发展有限公司”。根据企查查APP提供的信息,上海创消新技术发展有限公司于2019年3月13日正式成立,注册资本为50万元人民币,所属地区为上海市青浦区,法定代表人为刘明革,他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事,持有上海创消新技术发展有限公司85%的股份,另外15%的股份由“刘佳慧”持有,并没有什么大公司持有上海创消新技术发展有限公司的股份。
工商信息显示,上海创消新技术发展有限公司的注册资本包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发、技术转让、技术服务和技术咨询。值得注意的是,这家公司的经营范围并没有涉及芯片相关的内容,例如芯片设计和芯片制造。
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